Reinraum
Moderner Reinraum: Reinraumlabore über 2 Etagen
Reinraumklasse: ISO 4 – 6
Weissfläche: 700 m²
Mikro- und Nanotechnologie made in Jena
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien besitzt mit dem Reinraum eine exzellente infrastrukturelle Ausstattung. Technologisch wird die komplette Prozesskette vom Design über die Maskenherstellung, Lithographie, Schichtherstellung und -strukturierung bis hin zur Aufbau- und Verbindungstechnik und der Analytik abgedeckt. Die Qualitätssicherung von Kernprozessen ist nach DIN EN ISO 9001:2015 zertifiziert.
Technologieportfolio
Für die Herstellung von Sensoren und Chipbauelementen stehen Kombinationen mikrolithographischer Top-Down-Verfahren zur Verfügung:
- Metallische und dielektrische Dünnschichttechnologien
- Mikrosystemtechnik (MEMS)
- Waferskalige Nanolithographie auf Basis von Elektronenstrahllithographie
Lithographie
- Elektronenstrahllithographie
- Optische Lithographie
- Mask Aligner
- Maskless Aligner
- Waferstepper
Dünnschichtabscheidung
- Verdampfung, Sputtern, CVD, ALD
- Metalle: Au, Ag, Al, Ti, Nb, Cr, …
- Dielectrika: SiO2, Al2O3, Si3N4, TiO2, …
Strukturierung
- Plasmaätzen (RIE, IBE, RIBE, ICP)
- Nassätzen
- Lift-Off
Mikroskopie und Analytik
- REM, FIB und optische Mikroskopie
- AFM und Ellipsometrie
Aufbau und Verbindungstechnik
- Sägen > Vereinzeln von Substraten
- Drahtbonden
Reinraum
- 700m² ISO-Klasse 4 (auf 2 Etagen)
- Von Einzelchips bis zu 6” Wafergröße