Beschreibung
Lateraler Auflösungstest für die optische und UV-Mikroskopie
Der Nanoskalige Linienbreiten / Gitterperioden-Standard besteht aus verschiedenen Gitterstrukturen, die eine Kalibrierung der Linienbreiten sowie eine Auflösungsprüfung gestatten. Möglich ist dies beispielsweise für Verfahren der optischen Mikroskopie, wie UVM (deep ultraviolet microscopy) and CLSM (confocal laser scanning microscopy), aber auch für AFM (atomic force microscopy). Die in nanokristallines Silizium geätzten Strukturen gestatten weiterhin einen Astigmatismustest dieser Instrumente.
Ein hoher optischer Kontrast der Strukturen bis in den UV-Wellenlängenbereich ermöglicht den Einsatz in der UV-Transmissions- und UV–Reflexionsmikroskopie sowie der Laser Scanning Mikroskopie. Als Gittertypen sind 1-dimensionale Liniengitter (für x und y), 2-dimensionale Kreuzgitter und Kreisgitter vorhanden. Eine gesonderte Einzelstruktur zur CD-Bestimmung ist auf einer Seite des 1-dimensionalen Gitters angefügt.
Die Periodenwerte betragen 160, 200, 230, 260, 300, 400, 500, 700 nm, 1 µm und 4 µm, d.h. die Strukturbreiten liegen zwischen 80 nm und 2 µm.
Mit Ausnahme der größeren 4 µm Strukturen hat jedes Gitter eine Fläche von 10×10 µm².
Angebot | Kontakt
Dr. Uwe Hübner
Leiter des Kompetenzzentrums für Mikro- und Nanotechnologien
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