Modifizierter USAF-Test mit Siemensstern

Lateraler Auflösungstest in Polymer für die optische Mikroskopie

Zur Feststellung und Kontrolle des Auflösungsvermögen von optischen Instrumenten bieten wir eine hochauflösende Version des USAF Resolution Test Chart  („USAF-Auflösungstesttafel“ aus dem Jahre 1951) mit Gitterperioden bis 274 nm (= 3649 Lp/mm) an, ergänzt um eine hochauflösende Siemenssternstruktur mit einer Gitterperiode von 267 nm im Inneren.

• Substrat:  Quarz
• Chipgröße:  10 x 10 mm²
• Strukturmaterial:  500 nm PMMA