Beschreibung
Nummeriertes, zweidimensionales Markenarray zum Lokalisieren und Wiederauffinden von Positionen auf dem Chip
Ermöglicht Mehrlagenbelichtungen, z. B. zur Kontaktierung von 2D-Materialien, die auf die Chip-Oberfläche abgeschieden wurden
Einsatz:
- Substrat für die Elektronstrahllithographie
- Substrat für die Ionenlithographie (FIB)
- AFM
Strukturen:
- Markenabstand: 500 µm in x und y
Chip:
- Größe: 10 x 10 x 0,5 mm³
- Substratmaterial: Silizium oder oxidiertes Silizium
- Strukturmaterial: 50 nm Gold
Angebot | Kontakt
Dr. Uwe Hübner
Leiter des Kompetenzzentrums für Mikro- und Nanotechnologien
Ihr Ansprechpartner für kundenspezifische Anfragen
Telefon: +49 (0) 3641 · 206-126
Email: uwe.huebner@leibniz-ipht.de
