Beschreibung
Nummeriertes, zweidimensionales Markenarray zum Lokalisieren und Wiederauffinden von Positionen auf dem Chip
Ermöglicht Mehrlagenbelichtungen, z. B. zur Kontaktierung von 2D-Materialien, die auf die Chip-Oberfläche abgeschieden wurden
Einsatz:
- Substrat für die Elektronstrahllithographie
- Substrat für die Ionenlithographie (FIB)
- AFM
Strukturen:
- Markenabstand: 500 µm in x und y
Chip:
- Größe: 10 x 10 x 0,5 mm³
- Substratmaterial: Silizium oder oxidiertes Silizium
- Strukturmaterial: 50 nm Gold
Angebot | Kontakt
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