Abscheidung dünner Schichten

Wir bieten Technologien wie LPCVD, PECVD, ALD, PVD, sowie Trocken- und Nassoxidation an, um die Oberfläche Ihrer Proben mit einer Vielzahl von Materialien zu beschichten. Die so erzeugten Schichtdicken können zwischen einigen Nanometern und einigen Mikrometern liegen und auf Wunsch können auch Schichtsysteme angeboten werden. Weiterhin besteht auch die Möglichkeit stressangepasste Schichten herzustellen.

Grundsätzlich sind Probengrößen im unteren Millimeterbereich bis hin zu Wafer mit 150mm Durchmesser möglich.

Beschreibung

Folgende Materialien können mittels Sputtern, thermischem Verdampfen, ALD, PECVD/LPCVD und thermischer Oxidation abgeschieden werden, um die Oberfläche ihrer Proben mit einer Vielzahl von Materialien wie dielektrischen Schichten oder Metallen zu beschichten:

Metallische/halbmetallische Schichten

  • Al – Aluminium
  • AlSiCu – Aluminium-Silizium-Kupfer-Legierung
  • Ag – Silber
  • Au – Gold
  • AuPd – Goldpalladium
  • Bi – Bismut
  • BiSb – Bismutantimon
  • BiSbTe – Bismutantimontellurid
  • Co – Kobalt
  • Cr – Chrom
  • Cu – Kupfer
  • Nb – Niob
  • Ni – Nickel
  • NiCr – Nickelchrom
  • NiCrSi – Nickel-Chrom-Silizium-Legierung
  • Pt – Platin
  • Sb – Antimon
  • Ti – Titan
  • WTi – Wolframtitan

Dielektrische Schichten

  • AlN – Aluminiumnitrid
  • Al2O3 – Aluminiumoxid
  • MgO – Magnesiumoxid
  • NbOx – Nioboxid
  • SiN – Siliziumnitrid
  • SiO2 – Siliziumoxid
  • SiON – Siliziumoxinitrid

Sonstige

  • C – Kohlenstoff
  • a-Si – amorphes Silizium
  • ZnO – Zinkoxid
  • NbN – Niobnitrid
  • TiO2 – Titanoxid
  • TiN – Titannitrid
  • Auf Wunsch sind weitere Materialien verfügbar. Sprechen Sie uns an.

Sollte das von Ihnen gewünschte Material oder die Legierung nicht aufgeführt sein, kontaktieren Sie uns gerne für weiterführende Gespräche und ein individuelles Angebot.

Angebot | Kontakt

Ziegler

Dr. Mario Ziegler
Ihr Ansprechpartner für Optische Funktionsschichten

Telefon: +49 (0) 3641 · 206-539
Email: mario.ziegler@leibniz-ipht.de