Beschreibung
Folgende Materialien können mittels Sputtern, thermischem Verdampfen, ALD, PECVD/LPCVD und thermischer Oxidation abgeschieden werden, um die Oberfläche ihrer Proben mit einer Vielzahl von Materialien wie dielektrischen Schichten oder Metallen zu beschichten:
Metallische/halbmetallische Schichten
- Al – Aluminium
- AlSiCu – Aluminium-Silizium-Kupfer-Legierung
- Ag – Silber
- Au – Gold
- AuPd – Goldpalladium
- Bi – Bismut
- BiSb – Bismutantimon
- BiSbTe – Bismutantimontellurid
- Co – Kobalt
- Cr – Chrom
- Cu – Kupfer
- Nb – Niob
- Ni – Nickel
- NiCr – Nickelchrom
- NiCrSi – Nickel-Chrom-Silizium-Legierung
- Pt – Platin
- Sb – Antimon
- Ti – Titan
- WTi – Wolframtitan
Dielektrische Schichten
- AlN – Aluminiumnitrid
- Al2O3 – Aluminiumoxid
- MgO – Magnesiumoxid
- NbOx – Nioboxid
- SiN – Siliziumnitrid
- SiO2 – Siliziumoxid
- SiON – Siliziumoxinitrid
Sonstige
- C – Kohlenstoff
- a-Si – amorphes Silizium
- ZnO – Zinkoxid
- NbN – Niobnitrid
- TiO2 – Titanoxid
- TiN – Titannitrid
- Auf Wunsch sind weitere Materialien verfügbar. Sprechen Sie uns an.
Sollte das von Ihnen gewünschte Material oder die Legierung nicht aufgeführt sein, kontaktieren Sie uns gerne für weiterführende Gespräche und ein individuelles Angebot.
Angebot | Kontakt

Dr. Mario Ziegler
Ihr Ansprechpartner für Optische Funktionsschichten
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Email: mario.ziegler@leibniz-ipht.de