NIL-Master
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150 mm Si Wafer with 10 x 10 cm² grating area (pitch 200 nm)
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NIL-Master

Auf Kundenanfrage: Master für die NanoImprint-Lithographie (NIL) für nanooptische oder mikrofluidische Anwendungen

  • Kleinste Strukturperiode 200 nm
  • Vollflächig bis 135 mm
  • Material: Si, Quarz, Resist auf Si/Quarz

 

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Beschreibung

Unsere Technologien ermöglichen es, nanoskalige Strukturierung auf Wafermaßstab bis 150 mm (6″) auszuführen, z.B. für die Herstellung von Mastern für die NanoImprint-Lithographie (NIL) für nanooptische oder mikrofluidische Anwendungen

  • Kleinste Strukturperiode 200 nm
  • Vollflächig bis 135 mm
  • Material: Si, Quarz, Resist auf Si/Quarz

Angebot | Kontakt

Huebner

Dr. Uwe Hübner
Leiter des Kompetenzzentrums für Mikro- und Nanotechnologien
Ihr Ansprechpartner für kundenspezifische Anfragen

Telefon: +49 (0) 3641 · 206-126
Email: uwe.huebner@leibniz-ipht.de

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