Schwarzschichten

Beschreibung

High-Performance Absorberschicht für vielfältige Anwendungen im optischen Bereich. Die Herstellung erfolgt in einem patentierten zweistufigem Prozess (Metastabile Atomlagenabscheidung) mittels physikalischer Gasphasenabscheidung und Atomlagenabscheidung. Die draus resultierenden Strukturen bestehen aus Siliziumdioxid-Nanowire (150 nm Durchmesser) und kleinskaligen Silbernanopartikeln. Erste Muster mit Zinkoxidmatrix sind in der Erforschung und können als Experimentalmuster angefragt werden.

Die hergestellten Strukturen weisen eine sehr hohe Absorption von über 99,5 % im Bereich von 200 nm bis zu 4000 nm auf. Diese Absorption ist über einen Öffnungswinkel von ± 60° stabil. Die Absorption basiert auf der Plasmonenresonanz sowie auf Streuung in den nanoskaligen Strukturen. Ferner weisen die Strukturen eine hohe Beständigkeit gegenüber Umgebung, Feuchtigkeit, Hitze, Kälte und reaktivem Sauerstoff auf.

Absorption: > 99,5 % (200 nm bis 4000 nm // Schichtdickenabhängig)

Substrate: Aluminium, Glas, Kupfer, Messing, Silizium, oxidiertes Silizium, weitere auf Anfrage

Substratmorphologie: planar , 3D Strukturen auf Anfrage

Substratgröße: 10 × 10 mm² bis 150 mm Wafer